마이다스시스템
MDA-600S
10년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2020-05-18
123,000,000원
기관의뢰
고정형
건별
120,000원
얼라인 및 노광 장비
시편~max. 6인치 웨이퍼 대응 노광 가능
365nm i-line 뿐 아니라 필터 적용으로 g-line, h-line 뿐 아니라 필터 제거시 Broadband 노광 가능
수동-반자동-자동 형태 전환 가능
Standard Features
- Semi Auto System
- PLC Control
- Beam size : 6.25 inch x 6.25 inch
- Sample size : ~ 6inch wafer
- Mask size : Multi ~ 7inch x 7inch
- Wafer Stage : X,Y,Z and Theta 4 Axis motion (Motorized Z & Theta Axis)
- Auto leveling of mask and sample
- Dual CCD zoom microscope
- Anti-Vibration Table
- 365NM Max. Intensity : > 20-25 mw/cm2
- Max. Beam Size : 6.25inch x 6.25inch
- Beam Uniformity : ≤ 3%(4”)
Resolution
- Vacuum Contact : 1um < Thin PR(Thickness1um) @ Full size Si Wafer>
- Hard (Pressure) Contact : 2um
- Soft contact : 3um
- 20um Proximity : 5um