수스마이크로텍코리아
MA8BA8GEN4
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2020-04-21
250,000,000원
기관의뢰
고정형
기타
150,000원
8인치 마스크 얼라이너는 MEMS 센서 공정 기본 교육 및 전문가 양성을 위한 실습 교육 및 교내외 공동 활용자의 다양한 사진 공정에 대한 수요에 대응하고 기존 8 인치 공정 장비와 연계한 장비 활용 등으로 사용
○ Semi Auto System
- Auto exposure, Leveling and Z axis Stage motion
- Manual loading, unloading & Alignment
○ Sample size : 4, 6, 8“ wafer (Circle)
○ Mask size : up to 9“ × 9”
○ Wafer Stage : X, Y, Z, θ 4 Axis motion
- X, Y stage Resolution : 0.1 ㎛
- Theta Resolution : 5 x 10-5 degrees
- Z Axis : 0.1 ~100 ㎛
○ Auto leveling of mask and sample
○ 1 kW Mercury short arc lamp
- Wavelength : NUV 350nm ~ 450nm
- 365nm Max. Intensity : ≤~ 30 mw/㎠
- Beam Uniformity : ≤ ± 3%
- Vacuum Contact : 1 ㎛ < Thin PR(Thickness 1 um)
○ Top side Alignment
- Manual moving stage
- Magnification : 90x ~ 500x
○ Bottom side Alignment
- Image Capture Program
- Alignment Accuracy : < ± 1.5 ㎛