엘에이티
LEO12-8
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터
2020-04-23
391,925,000원
기관의뢰
고정형
기타
140,000원
12인치 마그네트론 스퍼터링 시스템은 교내외 공동 활용자의 다양한 박막 증착 수요의 대응과 반도체 공정의 배선공정, RDL 공정 및 MEMS 공정의 기능성 박막 공정, 다층박막 공정 등으로 활용
○ Process module
- 12inch magnetron sputtering cathode, 4 set
- Cryo pump & Dry pump
- Ultimate pressure < 8.0E-8 torr (within 12 in after target change)
- Target : Ti, Cu, Al, Cr, W etc.
- Uniformity : ± 5%
- Aspect ratio 10 :1
- Chuck Bias
- DC power 5kW
- 13.56MHz RF 600W Power
○ Loadlock Chamber & Transfer Arm
- Robot Arm
- Turbo pump & Dry pump
○ Cassette Chamber
- Cassette, 25ea capacity (4, 6, 8 inch)
○ Full Automatic Control