가스 희석장치는 1차 및 2차 희석장치로 구성되며, 1차 희석장치는 휘발성 물질의 응축을 방지하고, Secondary 먼지입자의 생성을 제어하기 위하여 350℃ 이상의 온도로 조정가능 및 공급하며, 2차 희석장치는 Ejector 타입의 노즐을 사용하여 1차로 희석된 배출가스에 2차 희석을 더하여 희석배율을 최소 1:25배에서 최대 1 : 200배 이상까지 조정한다