제이와이테크놀로지(주)
MCK2000
11년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 성형/가공장비 > 코팅기
2019-12-17
610,411,800원
기관의뢰
고정형
건별
500,000원
- 본 장비는 자동차, 산업기기, 절삭공구, 정밀기기등 다양한 분야에서 향후 활용도가 매우 높은 기술을 가진 시스템임
- 일반적인 코팅 공정의 경우, 한종류의 빔(플라즈마)소스를 활용하여 코팅 공정을 진행하지만, 상기 시스템은 2종 이상의 (플라즈마) 소스를 활용하여 코팅이 가능
- 현재 시장에서의 경량소재 적용 증대로 인한 성형, 가공을 위한 금형 및 공구류의 코팅에 대한 필요성이 증가되고 있으며 그에 맞춘 경량합금 부품 내구성 및 내마모 향상을 위한 코팅 가능
- 사용에 따라 상온에서 코팅이 가능하며 열에 약한 소재에도 코팅이 가능하여 기계적, 광학적, 전기화학적 특성을 위한 코팅이 가능하다.
1. 공정 챔버
- 박막 코팅을 진행하는 공정 챔버는 재질 및 용접 강도가 우수한 스테인레스 스틸을 사용, 고온을 견딜수 있도록 설계가 되어있음.
- 유효존 : D800 x H2000mm 이상.
2. 진공 시스템
- R/P + B/P를 통한 1차 배기, T/P를 통한 2차 배기를 하여 고진공 상태
- Ultimate Pressure : < 5 x 10⁻⁶ Torr, 24Hr
- Pumping Speed : 대기압부터 5 x 10⁻³Torr까지 30분이내 가능
- Rotary Pump : 1600L/min
- Booster Pump : 600m³/H
- Turbo Pump : 2200L/s
3. 히팅 시스템
- 탈가스 제거를 위하여 공정전 제품의 예열을 실시함.
- 챔버 최고 분위기 온도 : 최고 500℃
- Sheath Heater : (7kw x 3set) x 4positions
4. 크리닝(에칭) 시스템
- 이온소스를 통한 코팅막 증착시 안정적인 이온에너지 제공, 대면적의 코팅막 증착에도 양질의 코팅막 형성.
- Ar, O2 가스 등을 이용한 Cleaning
- Gun 사이즈 : 2120mm 이상
5. 가스 제어 시스템
- 4개의 MFC가 설치되어 가스 공급량을 조절합니다.
- Ar, O2, N2, C2H2 MFC 각 1개씩 장착.
6. 압력 제어 시스템
- Low Vacuum Gauge : Pirani Gauge
- High Vacuum Gauge : Penning Gauge
- Baratron Gauge
7. Arc 및 Sputter Gun
- Arc Gun : 높은 증착률 및 이온화율, 다양한 코팅막 가능.
-> Rec. Arc Gun 550mm 1set
- Sputter Gun : 다양한 코팅막 가능, 증착막 두께의 균일성, 저온 공정 가능, 대면적 타겟 이용 가능.
-> Cir. Sputter Gun 6인치 2set
-> Rot. Sputter Gun 2200mm 1set
7. Spare Parts
(1) 본 ‘시스템’과 함께 무상으로 제공되어야 할 Spare Part 및 수량
1) Arc Gun용 : 쉴드(1SET), 클램프(1SET), O-ring(1SET)
2) Sputter Gun용 : 쉴드(각1SET), 클램프(각1SET), O-ring(각1SET)
3) 기타 Part : Door O-ring(1개), View port glass(1개), 로타리펌프 오일(1SET), 부스타펌프 오일(1SET), 챔버 쉴드(1SET)