(주)파이버피아
LLM-100
10년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 카메라/영상처리장비 > 달리 분류되지 않는 카메라/영상처리장비
2021-06-11
240,320,320원
기관의뢰
고정형
시간별
64,000원
1. 나노 패턴 대면적 레이저 시스템은 레이저 리소그래피 기술을 적용한 나노패턴을 제작하기 위한 장비로 레이저 노광공정 수행
2. 레이저 시스템 결합을 통한 선폭 100㎚급 나노패터닝 공정
- 간섭 노광(interference exposure) 시스템을 이용하여 선폭 100 nm 급 및 주기 200 nm ~ 수 um 패턴 제작 가능
- 광원의 on/off을 조절하는 전동 셔터와 연동하여 연속적인 노광 및 patch to patch 방식 노광을 통한 나노패턴 원통금형 제작 장치임
- 레이저 광원은 UV파장의 CW레이저로 SLM(Single Longitudinal Mode)모드를 갖고 있어 리소그래피 기술을 적용이 용이한 레이저 특성을 갖음.
- 선폭 100nm급 패턴을 제작하기 위해서는 나노 미터급 분해능의 Auto-focusing기능을 갖고 있음.
- 보조기능으로 Laser Direct Imaging 기술을 이용한 마이크로 패턴 제작 가능토록
레이저 시스템에 CAD/CAM기능을 내장하고 있음.
→ X.Y축 나노 스테이지에 CAD/CAM 기능과 셔터 기능을 적용하여 레이저로 원하는 형상을 그릴 수 있는 기능을 갖음.
- 보조 기능으로 UV 레이저를 사용하여 대면적 UV Curing공정도 필요시 수행할 수 있는 기능을 갖도록 함.
→ 기존의 UV램핑기반의 Curing에 비해 빠르고 X.Y축 스테이지가 정밀하여 추후 나노응용제품에 응용될 수 있도록 제작함. 즉, 광학부품 배열을 바꾸면 UV Curing 장비가 되도록 제작함.
ㅇ 레이저 시스템 결합을 통한 선폭 100㎚급 나노패터닝 공정
- 주기능: 간섭 노광(interference exposure) 시스템을 이용하여 선폭 100 nm 급 및 주기 200 nm ~ 수 um 패턴 제작 가능
- 보조기능①: Laser Direct Imaging 기술을 이용한 마이크로 image 제작가능 (CAM기능 이용)
- 보조기능②: UV 기반 대면적 curing 가능
ㅇ 중심 파장: < 360 nm
ㅇ SLM(Single Longitudinal Mode)
ㅇ Auto-focusing 및 CAD/CAM 지원
1. 적용 레이저 사양
ㅇ 중심 파장: < 360 nm
ㅇ Output power: 100 mW 급
ㅇ Spatial Mode: TEM00
ㅇ Long-term power stability: ±2%
ㅇ Coherent length: > 3 m
ㅇ SLM(Single Longitudinal Mode) - 간섭노광
2. 레이저 빔 전달 광학계 구성 및 사양
ㅇ Beam shaping optic unit의 Beam output diameter: > Max. 6 mm
ㅇ Beam splitting optic unit의 레이저 분기비: 50:50% (±2%)
ㅇ Interference unit의 Piezoelectric 제어를 통한 Mirror 각도 제어 분해능: 0.001°
ㅇ Multi-beam Monitoring 배율: 광학 배율 100배 이상
ㅇ Real time auto-focusing unit의 Z축 초점 렌즈 이송 스테이지의 이송 동작거리 30 mm이내, 분해능 10 nm, 선속 200 mm/s 초점 측정센서 거리분해능은 50 nm로 종합적으로 200 nm이내 거리의 Auto-focusing 기능
3. 패턴 정밀이송을 위한 나노 스테이지
ㅇ X, Y-axis nanometer positioning stage: 분해능 1 nm, 반복정밀도 75 nm, 작업영역 160×160 mm, 최대선속 350 mm/s, 최대 Load 2.4kg 이상, Flatness 2 um, Hybrid DC/Piezo stage
ㅇ Z-axis stage: 분해능 0.5 um, 반복정밀도 1 um, 이송거리 100 mm, Load : 35kg, Auto-focusing용 정밀 스테이지와 연계 작동
ㅇ 제진대: Pneumatic형 Isolation, 3-Auto level control
ㅇ Natural frequency: 2.5-3.0 Hz
ㅇ Repeatability: ±50 nm
ㅇ Table size 2000*1500 mm
ㅇ Z축 스테이지 및 빔 전달 광학계 고정용 석정반
- 석정반 크기: 1400×870×150 mm
- 광학계 등 고정을 위해 M6 Tap, pitch 25 mm Optical board 부착
4. 제어장치 및 소프트웨어
ㅇ 스테이지 모션 제어: 4축 controller, 80 Mhz DSP및 240 MhZ CPU사용, 고정도 16-bit DA Convertor적용, Ethernet/RS-232 동시 통신 가능, I/O interface 24 ports, x4096체배 기능 보유
ㅇ 출력제어 및 가공 시 실시간 레이저 on/off
ㅇ Interference unit의 Piezoelectric 제어: 8축 controller, Ethernet/USB2.0 interface, Max. pulse rate 2 kHz,
ㅇ Vision제어 장치: 4.5X Zoom lens적용, 최대 광학적 배율: 100배, Auto focusing 및 치수측정 기능 보유
ㅇ 소프터웨어
- 레이저 시스템: 출력제어 및 가공 시 실시간 레이저 on/off
- Interference unit의 Piezoelectric 제어를 통한 Mirror 각도 제어(총 8축)
- Vision 장치를 이용하여 레이저 빔 Auto-focusing기능, 치수측정기능
화면 저장기능, Laser power balance기능
- 4축 모션 제어 기능 및 패턴 가공 기능, Beam center calibration 기능