유주티엔씨(주)
KCTECH P10B
9년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 트랙장비
2020-02-27
347,831,240원
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
200,000원
나노금형상용화지원센터 기술개발 중, 대면적 원통/평판 현상 시스템은 원통금형(길이 1200㎜, 직경 300㎜), 평판형 기판(1100㎜×1300㎜)의 현상, 세정, 건조 공정으로 진행되는 트랙(Track) 장비임
● 현상 시스템
ㅇ Process Flow: 투입 → 현상 → 린스 → 건조 → 배출
ㅇ Substrate Size
- 원통: 1800㎜ × Ø300㎜(원통 금형 현상용 전용 지그)
- 평판: 1100㎜ × 1300㎜ × 0.5T
ㅇ Chemical Temp.: 23 ± 0.5℃
ㅇ 원통금형 360° 회전 및 평판금형 좌·우 Oscillation
ㅇ 원통/평판 기울기: 5° 경사 이송
ㅇ 각 Zone 별 가스 배출용 후드 및 공정 별 분리용 door 설치
ㅇ 롤 컨베이어 이송 및 회전
● Develop Zone
ㅇ Nozzle type: 스프레이 노즐
- 원통: 퍼들(Puddle) 방식
- 평판: 퍼들 또는 딥(Dip) 방식
- 스프레이 노즐을 이용하여 상하 위치 조절 가능
● Rinse Zone
ㅇ Nozzle type: 샤워 노즐
- 노즐과 원통/평판 사이의 갭(gap) 수동 조절 가능
● Dry Zone
ㅇ Dry 방식: Air knife(3열)
- 에어 나이프 상하 위치 조절 가능
● Control System
ㅇ PLC 제어(Electric unit)
ㅇ 터치스크린(14“): 원통 회전 속도 및 위치 제어
ㅇ 평판 및 원형 소재 고정 지그 장착