우양포토닉스
Vitara-S
10년
주장비
시험
광학·전자 영상장비 > 현미경 > 달리 분류되지 않는 현미경
2020-01-01
231,000,000원
기관의뢰
고정형
시간별
100,000원
이 장비는 대형 나노 패턴 금형 제작을 위한 폴리머 패턴 제작용 레이저 장비임. 주 구성은 800nm 펨토초 레이저, 갈로미러 스캐너 및 나노급 스테이지로 구성되어 있음. 해당 장비는 이광자중합 반응을 폴리머를 기판에 코팅/드랍한 후 나노급 위치제어를 통해 패턴을 제작하며, 기존 패턴 기판에 오차가 있는 부분을 제거한 후 이 장비를 활용하여 패턴을 복구/재생 할 수 있음.
본 장비는 이광자중합을 이용한 레이저 직접묘화 공정을 구현하는 장비로서,
200x200mm 이상의 대면적 기판에 100nm급의 폴리머 패턴을,
나노미터 분해능을 가진 정밀 스테이지를 이용하여, 지정한 위치에 선택적으로 복구 또는 제작할 수 있는 장비임.
이를 구현하기 위해 아래의 4개 유닛으로 구성되어야 함.
가. 펨토초레이저
- wavelength = 800nm±10nm
-outputpower > 325mW
-Bandwidth : >70nm fixed at FWHM
-Power stability < ±0.75%
-Repetition rate = 80MHz
-레이저 본체, 레이저 controller, 레이저 냉각기(chiller) 및 레이저를 운영에 필요한 controller 일체 포함.
나. 갈보미러 스캐너(galvomirror scanner)
- 2축 미러 구동 방식
- 800nm(주코팅), 532nm (부분 반사)
-aperture size ~ 10mm
-typeical speed > 10m/s
-step response time ~ < 1.1ms
-galvomirror scanner 구동 드라이버(또는 컨트롤러) 포함.
다. XY 스테이지
-. Ironless core linear motor 타입 - 2축 스테이지
-. stroke : 400mm
-. 위치 분해능 ~ 5nm
-. 양방향 반복능 +- 0.5um
-. 진직도(straightness) < ±5um (자체 성적표 기준)
-. 평탄도(flatness) < ± 5um (자체 성적표 기준)
-. Max. velocity > 50mm/s
-. Max 가속도 > 1G
-. Max payload (vertical) > 70kg
라. 빔 안정화 유닛
- 피에조(piezo) 구동기 방식
- 2EA of steering mirror mounts with piezo drives.
- 2EA of 4-QD Si detectors with electronics and mounts.
- Laser position display on each detector