Nicon
NSR-2005i10C
10년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2018-12-27
504,400,000원
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
100,000원
반도체 포토(Photo)공정에 사용되는 설비로 Wafer 표면에 고집도 미세회로를 생성하기 위하여 사용되며, Reticle의 상이 일정한 비율로 축소되어 투영되는 방식으로 SiC MOSFET과 같은 패턴의 크기가 1μm이하 이거나 같 패턴의 모형이 계속 반복될 경우 Reticle과 PR 용액이 도포된 Wafer와의 거리를 일정하게 조절하여 이동하면서 복적으로 노광을 실시하는 장비이다.
○ Wafer size : 150mm (6inch)
○ Exposure Power: 600mW/cm2 이상
○ Illumination Uniformity: ±2.0% 이내
○ Intergrated Exposure Stability: ±1.0% 이내
○ Wafer Holder Flatness: 3.0μm 이내 (Max.-Min.)
○ Chip Leveling Accuracy: 3초 이내
○ Reticle Blind Setting Accuracy: +0.4 ~ +0.8mm (on reticle)
○ Reticle Rotation: Absolute value ±0.02μm 이하
○ Reticle Rotation Repeatability: 0.02μm 이하
○ Stepping Precision: ±0.06μm 이하 (3σ)
○ Overlay Accuracy: IMI+3σ≤0.09μm(LSA), IMI+3σ≤0.09μm(FIA)
○ Lens Distortion: ±0.06μm 이하 (Magnification Error 포함)
○ Wafer Loading Test: 100회 이상