티이엔지
T-HTAS-200
11년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 퍼니스
2018-12-14
53,354,400원
원
■가스라인을 통해 다양한 가스를 주입하면서 실리콘 웨이퍼를 열처리 할 수 있는 확산로
■온도 : 25 ℃ ~ 1200 ℃의 온도의 가열 및 지속적인 유지 가능
■용량 : 4인치 웨이퍼 최대 50장 동시 열처리 가능
■가스 라인 : 산소, 질소, 아르곤, 포밍가스(H2+Ar) 사용
■Thermocouple을 통해 열처리 확산로 내부의 정확한 온도 측정
■Mass Flow Controller를 통한 Gas flow의 정밀제어
■Cooling Chiller를 통한 열처리 확산로 내부의 지속적인 온도 유지 가능
■Thermocouple을 통해 열처리 확산로 내부의 정확한 온도 측정
■Mass Flow Controller를 통한 Gas flow의 정밀제어
■Cooling Chiller를 통한 열처리 확산로 내부의 지속적인 온도 유지 가능