LAM
TCP-9600
10년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2018-12-27
620,400,000원
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
230,000원
금속 건식식각기는 반응성 가스를 이용하여 플라즈마
상태에서 웨이퍼에 설계된 미세 선폭의 금속을 식각하는 장비로 탄화규소(SiC) 전용 공정에 사용되어지고,
웨이퍼를 이송하는 자동 반송시스템과 진공챔버, 플라즈마 발생장치, 가스공급 및 배기시스템, 식각후 웨이퍼세정 그리고 모든 것을 자동으로 운전할 수 있는 PC를 갖추고 데이터를 저장기능이 있다.
○ Wafer size : 150mm (6inch)
○ ESC Wafer Chuck
- wafer 350 ㎛(t)
○ Full automatic System
○ EPD(End Point Detector)
○ Metal Etcher
- 1 Chamber (Process & Vacuum Loadlock) 시스템
- Wafer Transfer: Robot Auto Transfer System
- 금속 식각 및 Doped-Poly 용 Chamber
- ESC Clamp type
- Gas: BCl3, Cl2, N2, O2, CF4, Ar, H2O 중 선택
- RF Generator: 13.56Mhz, TCP 600W 이하, Bias 4300W 이하
- Etch Rate: 7000Ả/min 이상 @ Al
- Uniformity: 5% (Wafer to Wafer) 이하
○ Oxide Etcher
- Wafer Transfer: Robot Auto Transfer System
- 산화막 식각용 1 Chamber
- ESC Clamp type
- Gas: Ar, CF4, He, N2, O2, CHF3 중 선택
- Etch Rate: 3000Ả/min 이상 @ TEOS SiO2
- Uniformity: 5% (Wafer to Wafer) 이하