Shincron
RAS-1100C
11년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터
2019-05-02
1,135,655,170원
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
207,000원
- 광학박막코팅을 위한 스퍼터 장비로 듀얼 마그네트론 스퍼터 소스를 이용하여 금속물질을 코팅하고 ICP 플라즈마 소스로 코팅막을 산화 또는 질화시켜서 산화막 또는 질화막을 얻는 방식을 사용함
- 드럼형 기판을 채택하고 빠른 속도로 회전시켜서 금속 코팅 영역과 플라즈마 반응영역을 순차로 지나가도록 하여 균일한 박막을 얻을 수 있음
- 기존 반응성 스퍼터 방식에 비하여 증착속도가 빠르고 코팅 시간 제어 방식 만으로도 코팅 두께 재현성이 매우 우수함
장비 구성
- 공정 챔버부
- 로드락 챔버부
- 중간주파수 듀얼 마그네트론 스퍼터 소스부 2 set
- ICP 플라즈마 소스부 1 set
- 드럼형 기판부
- 자동 공정 제어부
- 진공 펌프부 (터보펌프 + 드리아 펌프)
성능
- 유효 기판 면적 : 7000 cm2 이상
- SiO2 코팅 속도 : 0.3 nm/s 이상
- Si3N4 코팅 : 경도 12 GPa 이상, 투과율 83% 이상
- 코팅 균일도 및 재현성 : +-1% 이내