Ion-tof
TOF-SIMS 5
10년
주장비
분석
화합물 전처리·분석장비 > 질량분석장비 > 메트릭스보조레이저탈착이온화질량분석기
2019-01-31
1,692,865,530원
직접사용
고정형
건별
100,000원
- 기능성 화학소재의 표면 분석 시스템으로 물리/화학적 구조, 성분, 결정성 평가 등을 효과적으로 분석 가능
- FIB를 활용하여 진공에서 외부 오염을 최소화하여 시료 손상 및 정보에 대한 왜곡 없이 분석할 수 있는 동일 영역 다기능 특성분석 장비
- 기능성 화학소재에 대하여 고해상도로 관심영역의 형상 및 표면 구조를 확인하고 동일지점에서 기계적, 전기적, 광학적특성 분석
- Micro 크기의 작은 시료 분석 및 OLED와 같은 유기폴리머층의 다양한 시료의 depth profile 분석
- 기능성 화학소재의 물리화학적 기초 물성 연구 및 광/전기적/영상 특성 변화 분석
* 코팅 박막 및 필름 계면의 성분 분석
* 공중합체의 질량분석, 점착제 층 내 특정 원소 구배분포 분석
* 축방열 기질 고분자내부 계면에 상전이비드의 조성 정성 및 정량분석
* 고방열 필러 및 paste 용 무기/금속 재료 분석 실험. Die attach 소재용 기능성 고분자 조성 변화 및 공정 조건에 따른 표면 조성 변화 분석
* 담지된 불균일계 촉매의 chemical mapping을 통하여 성분분석 및 실제 공정온도 조건에서 이원기능을 갖는 담지된 금속의 feature characteristics 분석하여 촉매 최적화 진행
- Minimum beam diameter : < 80 nm
- Mass range : > 12,000 u
- Sensitivity : > 5.5 x 108 Al+/nC (@ full mass resolution)
- Mass resolution : @ 200 u : > 16,000
- Base pressure : < 5.0 x 10-10 torr (< 6.7 x 10-10 mbar)
- Major Function : surface analysis, depth profile, TOF SIMS Image, 3D analysis
- Ar cluster source : for organic depth profile
- FIB : for insitu analysis without sample contamination
* Ion species : Ga
* Beam voltage : 15~30 kv
* Minimum Beam diameter : < 60 nm
* Maximum Beam current : > 25 nA
* Current density : > 20 nA @ 500 nm spot size
- Full automated system : data system should control full function of system without manual operation