Hitach High-technologies
NX2000
9년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 광파발생/측정장비 > 달리 분류되지 않는 광파발생/측정장비
2018-09-03
1,371,557,170원
직접사용
고정형
건별
100,000원
- Liquid Gallium Metal Ion Source 으로부터 인가된 Ion 입자를 시료에 조사시킴으로써 sample의 상태를 관찰하면서 TEM(Transmission Electron Microscope) 및 SEM(Scanning Electron Microscope) 시료(semiconductor & other advanced materials) 가공
- 특히, Beam current를 다양하게 조절하여 nano 단위의 세밀한 시료가공을 하는데 유용한 장비이며, Ga ion & Electron gun이 탑재되어 있어 가공하면서 SEM 이미지 관찰을 위한 장비로 운용
- Ar ion gun을 이용하여 FIB 가공시 발생되는 시료 단면의 curtain effect 제거 및 TEM thinning 작업 (40nm이하의 박막가공)에 특화
1. Ga ion gun
- Ga ion beam을 발생시키는 장비로 SIM 이미지를 통해 가공위치를 지정하고, 대면적을 빠른 시간 내에 가공하거나 nano 단위 미세영역을 식각하는 데 사용
2. Electron gun
- Ga ion gun으로 가공된 영역에 대해 고해상도의 이미지를 실시간으로 관찰하고, electron beam에 의해 시료에서 발생된 다양한 signal을 이용하여 이미징하는 데 사용
3. Ar ion gun
- Ga ion gun으로 가공한 후, 가공면에 남아 있는 Ga damage를 제거하고, TEM 관찰을 위한 fine milling 작업 및 박막가공에 사용
4. Deposition gun (2ch)
- 시료 표면을 보호하거나, TEM 시료 가공을 위한 시료 pick-up 작업시에 probe에 시료를 고정하거나, TEM 관찰용 grid 위에 시료를 고정하기 위해 사용하며, source에 따라 Tungsten 및 Carbon을 선택하여 활용할 수 있음
Micro Probing System
시료 pick-up 이후 probing에 부착된 시료를 다양한 각도에서 가공할 수 있도록 조정해 주는 stage system으로 TEM lamella 제작에 활용됨.