AMAT
P-5000 DxZ Chamber
9년
부대장비(부가장치) (주장비:)
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 플라즈마기상화학증착장비
2017-10-30
192,814,000원
원
200mm SiH4-based PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) Chamber
- Backbone : 200mm AMAT(Applied Materials) P-5000 System
- Process : PECVD SiO2/SiN/SiON Thin-film Depositon
- Process Gas : SiH4, N2O, NH3
- Clean Gas : NF3, CF4
- Process Temperature : 200~400 Å
1. AMAT社, 200mm P-5000 SiH4-based PECVD SiO2/SiN 박막 증착 챔버
- PECVD SiO2/SiN/SiON 박막 증착
2. Chamber 세정 가스의 플라즈마 형성을 위한 원거리 플라즈마 생성 시스템
[RPS (Remote Plasma Source) System]
3. Gas 전달 시스템 (Gas cabinet, Gas lines 등)
4. 전기/ PCW/ 배관 등 Utility Hook-up