1) 펨토초 레이저(펄스에너지>1.2 mJ, 펄스폭<35 fs, 반복률 5 kHz, 레이저 중심파장:800 nm)
2) 가공 시스템의 크기: 1100 mm*1200 mm*750 mm(광학테이블 제외)
3) 가공 시스템의 무게: Max 1000kg 이하
4) XY 스테이지 직진도 및 정렬오차: +/- 0.5 um 이하
5) XY 스테이지 구동 범위: 300 mm
6) Z 스테이지 직진도 및 정렬오차: 1 um 이하 (+/- 0.5 um 이하)
7) Z 스테이지 구동 범위: 200 mm
8) Z’ 스테이지 직진도 및 정렬오차: 1.5 um 이하 (+/- 0.75 um)
9) Z’ 스테이지 구동 범위: 50 mm
10) R 스테이지 정확도 및 정밀도 : 0.0001도 이하
11) R 스테이지 구동범위 및 속도 : 360도, 180도/s
12) 레이저 빔 경로의 차폐 : AL60-Black 1.2T 이상
13) XYZ 고정 석정반의 표면 정밀도: 5 um 이하
14) 기본 사용 레이저 파장: 800 nm
15) 광학테이블 (3000 mm*1500 mm*300 mm, 2EA 조인트)
16) Advantech industrial PC