(주)울텍
SPACE-S
5년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 원자층증착장비
2017-04-10
349,000,000원
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
85,000원
본 시스템은 바이오센서를 비롯한 전자의료기기 제작을 위한 원자층 박막형성을 위한 플라즈마 원자층 증착 장비로서, 8인치 기판에서 박막 균일도(Uniformity) 오차가 ± 5 % 이내가 되는 장비이다.
균일한 가스 주입을 위해 샤워헤드는 gas가 2번 이상 확산 공간을 갖는 구조로 제작되며, 서로 다른 가스가 샤워헤드 내부에서 혼합되지 않도록 샤워헤드는 2중 샤워헤드로 구성되고, gas hole 사이 간격과 hole size 의 제약이 없도록 2중 샤워헤드는 조립형이 아닌 일체형으로 제작된다.
히터는 서보모터를 이용해서 높낮이 조절이 가능하고 박막 균일도(Uniformity)를 개선하기 위해 회전이 가능하다.
샤워헤드는 샤워헤드 내부에서 플라즈마가 발생되는 것을 방지할 수 있는 구조이고, 순환공정(Cyclic process)시 시분할 가스 공급방식으로 공정 가스 주입되도록 가스 공급부가 구성되고 소프트웨어도 구성된다.
장비는 PC를 이용해서 자동제어 되고 제어 소프트웨어에는 자가진단 기능이 포함되어 있다.
[시스템의 구성]
1. 공정 챔버 모듈 1 set
2. RF 전원공급 장치 1 set
3. 진공과 진공 측정 모듈 1 set
4. 소스 & 가스 공급 모듈 1 set
5. 카세트챔버와 로드락챔버 모듈 1 set
6. 시스템 제어 모듈 1 set
7. 후레임 모듈 1 set
8. 기타 설치 1 set
[시스템의 주요 성능]
- 박막 불균일도(@8인치기판) : ±5% 이내
- 샤워헤드 구조 : 2번 이상 확산 공간을 가지고, 내부에 플라즈마가 발생되지 않음
- 공정챔버 히팅온도 : 최대100℃
- 가스라인 히팅온도 : 최대150℃
- 기판용 히터 온도 : 최대1,000℃
- 가스공급방식 : 시분할 공급방식
- 소프트웨어 : 자가진단 기능 포함
- 최저진공도(공정챔버) : 5E-3Torr이하
- 최저진공도(카세트&로드락챔버) : 5E-3Torr이하