엔브이에스
개발장비
9년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 달리 분류되지 않는 기계가공 시험장비 >
2015-12-10
46,000,000원
원
양성자가속기연구센터에서는 산업통상자원부 WPM 사업에서 참여기관과제로서 “Zn-Mg 및 Zn-free형 Al-Mg계 표면처리 강판 소재 개발”과제를 수행함에 있어 200mpm 대응 전처리공정용 고속에칭 이온원 개발을 수행 중에 있다. 2015년도 연구수행 내용 중 “빔폭 300mm급 이온원 테스트베드 구축”을 위해 버켓타입 대전류 이온원 에칭율 시험장치를 제작하였다. 본장치는 진공도 등 이온원의 공정 및 환경변수를 조절하여 이에 따른 에칭율 측정을 하고자 장비를 설계 제작하였다.
1.1 장치의 용도
본 제작을 통해 제작되는 “버켓타입 대전류 이온원 에칭율 시험장치”는 과제 연구수행 내용 중 “폭 300mm급 이온원 테스트베드 구축” 수행을 위한 기본장치로서 사용된다.
1. 장비 구성
- 진공챔버 + 빔셔터(구동부품 포함) + 작업진공도 제어를 위한 밸브 (트로틀 밸브) + 고진공 펌프 설치를 위한 엘보형 어뎁터 부품 + 빔덤프 + 챔버 지지체 + 진공배기 제어시스템 + 이온원 교체를 위한 어뎁터 부품
- 진공챔버 구성 : 원형챔버(직경 960×높이 750mm 내부치수), 도어시스템 (직경 450mm 이상, 시창 포함) 1SET, 원형 상판플랜지 (직경 1050mm, 이온원 설치 가능하도록 설계) 1EA, DN320 ISO-K type 플랜지 1개소, DN160 ISO-K type 플랜지 7개소, NW40 Port 6개소로 구성
- 냉각 채널 : 빔셔터 2개소, 빔덤프 1개소 가공
2. 장비 성능
- 가공 위치 정밀도 20 ㎛ 이내
- 진공용접 처리후 편평도 및 치수정밀도 100 ㎛ 이내
- 수냉을 위한 냉각 채널 가공 (빔덤프, 빔셔터)
- 진공도 제어를 위한 트로틀밸브 설치 (바라트론 게이지, 컨트롤러 및 케이블 포함)
- 빔셔터 on/off 구동시간 1초 이내
- 진공도 : 3E-7 Torr 이하