Hitachi
NX2000
10년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경
2016-03-29
1,482,862,940원
원
Liquid Gallium Metal Ion Source 으로부터 인가된 Ion 입자를 시료에 조사시킴으로써 sample의 상태를 관찰하면서 TEM(Transmission Electron Microscope) 및 SEM(Scanning Electron Microscope) 시료(semiconductor & other advanced materials)가공을 할 수 있는 기기이다. Image 분해능이 좋은 FE-SEM Gun 을 내장하여 미세영역의 가공을 용이하게 할 수 있으며, 특히 Ga Ion 으로 1차가공한 후 Ar Gun 을 사용하여 Milling 함으로써 Miling Rate 를 nm 단위로 미세하게 조정하는 것이 가능하다.
주요구조 :
Ar-Beam (3rd Beam)
Energy-dispersive X-ray Spectroscopy (EDS)
Electron Backscatter Diffraction (EBSD),
Multi-Probe System (MPS) Stage
기본 구성:
1. High performance Focused Ion Beam Optics System and its Controller 1 set
2. High performance Electron Beam Optics System and its Controller 1 set
3. Low Acceleration Argon Beam Optics System and its Controller 1 set
4. Power Supply Unit 1 set
5. Detectors 1 set
- FESEM Column Integrated
- Secondary Electron Detector Installed in the Main chamber
- IR-CCD Camera
- Color CCD Camera
- LN2 Free SDD EDS Detector
6. High Vacuum Sampe Chamber 1 set
7. Sub-Chamber : Motorized operation sample transfer system 1 set
8. 200mm wafer Compatible Sample Stage 1 set
9. Vacuum Evacuation System 1 set
10. Chiller 1 set
11. Computer System 1 set
12. U. P. S. ( 7.5 KVA) 1 set
13. Dry Pump 1 set
14. Standard spare parts kit 1 kit