태창엔지니어링
개발장비
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2015-01-15
694,000,000원
직접사용
고정형
일별
500,000원
- 500 x 500 mm 이하 Film/Glass Sheet 및 cell의 패터닝(현상, 에칭, 박리) 시스템
- develop-rinse-etching-rinse-Strip-rinse -Dry 최적(소)화 연속공정라인
- 3단 Wet station을 통한 단품 공정(300mm) : Acid-QDR(F/R)- Alkali bath
● 샘플사이즈 : Max. 500 x 500 mm
● 구성
- Develop, Air cut, Acid, Rinse, Dry
● Develop
- spray & oscillation system
● Rinse
- Spray system, DI Tank 60L
● Etch or Strip
- spray & oscillation system
● Acid : spray system, 100L