Suss MicroTec Lithography GmbH
MA6/BA6
9년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2003-03-03
210,285,038원
고정형
시간별
0원
- 반도체 제조에서 회로 패턴을 그린 포토마스크와 실리콘 웨이퍼를 정확하게
위치 맞춤하는 기능을 가진 노광(묘화) 장치
- Photo- lithography process 용
- substrate size : piece, 4, 6 inch
- Mask size : 5, 7 inch
- Top/Bottom side alignment
- λ: 350/405 nm