두리텍
wet station system
9년
주장비
생산
화합물 전처리·분석장비 > 달리 분류되지 않는 화합물 전처리 분석장비 >
2010-01-08
58,850,000원
고정형
건별
0원
Wet Station System은 콤팩트한 설계 및 디자인으로 반도체 웨이퍼, 글래스 또는 세라믹 기판과 같은 시료에 화학약품을 이용한 반도체 식각 공정, 현상공정, 박리공정, 세정공정을 응용하는 장비입니다.
glass 기판 및 wafer를 세정 및 식각하는 장비로, ITO, Cr, HF etcher을 사용하여 선택적으로 식각후 세정을 할수 있는 장비 이며,제조공정 중 Wet Etching에 적용하는 설비로서 Contamination의 제거 목적으로 사용되며 공정 Flow는 산화막 제거 공정, 수세공정 금속 불순물 제거, 수세공정 등의 방식으로 진행 된다.