한국진공
모델명 없음
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2014-01-22
52,000,000원
원
off-axis RF sputter
Hyro-thermal 이나, Sol-gel 방법들의 비교적 저가의 화학적 합성법으로는 complex oxide 물질의 epitaxy 증착이 불가하여, 터보 펌프를 포함한 진공챔버와 고온 히터를 갖춘 RF Sputter 장비를 이용하여야 함.
Complex Oxide 증착을 위한 axis RF Sputter
RF gun target size: 1인치 (2EA)
최저진공도: 10^-6 Torr
Gun-substrate off-axis angle: 90 degree
최고기판 온되 750 C