(주)정민실업
모델명 없음
11년
주장비
기타
기계가공·시험장비 > 열유체장비 > 달리 분류되지 않는 열유체장비
2015-03-09
175,000,000원
고정형
일별
420,000원
산세정 표면처리장비는 N2 or Ar 분위기Gas로 내부를 충진 후, HCl Gas를 투입하여 산-세정 및 발생된 수소 취성, 잔류수소에 의한 수소균열을 억제하기 위해 수소 환원 처리하는 것이 가능한 장비이다.
1. Gas reaction Chamber (Quatz Cell type)
- 사용가스 : N₂ or Ar, HCl, H₂
2. Heating Size : 900(W)×900(H)×900(D)mm
3. 사용압력 : Vacuum ~ 1atm
4. 도달진공도 : ×10³ Torr (단, 깨끗한 空爐일때)
5. 최대도달온도 : 1000℃ (Max.1100℃)
6. 온도구배 : ± 6℃ 이내 (N₂Gas, HCl Gas, H₂Gas 조건)
7. 온도측정부 : Heating Elements 노출형
8. 온도측정 Port : 1 Port (사양: 1Set 정밀측정 Control용)
9. Heater 전기용량 및 방식 : 약 90KVA 이하, 1차측 380V 삼상
10. Power Cable 방식 : Busbar 혹은 동일한 Square의 Cable 사용
11. Chamber에 부착되는 부분은 HCl Gas에 노출되는 부분의 부식을 억제하는 Sealing
12. Chamber 재질 : 모든 부분을 전부 Quartz를 사용하여 제작한다.
13. 도어 방식 : Side Hinged Type Door, Quartz Baffle Type
14. 전기 동력 Line : 전수 Bus Bar 혹은 Bus Bar와 같은 굵기의 Power Cable 150A이상
15. Quartz Chamber 및 제품의 하중을 버티는 지지대 설치
16. Heating Module을 4면에 설치하여 온도 균일도를 높임
17. Heating Element에 관련된 모든 부품과 Spare Part는 규격화 된 제품으로 별도로 표기한다
18. 장비의 실제 상황을 실시간으로 Monitoring 하기 위한 Date Acquisition System 설치
- (PC로 실시간 상황 체크)
19. Gas Flow는 자동 Control하며 투입밸브는 Control Panel의 S/W에 의해 제어된다.
20. 수봉식 Vacuum Pump 사용 시 HCl의 검출센서를 사용하며. 검출시 수봉식 Vacuum Pump의 Water 공급 Tank에 NaOH를 자동으로 투입한다.
21. Filter Tank : 수봉식 Vacuum Pump 전단에 250Ø x 600H mm NaOH 그레뉼 탱크를 설치하여, 펌프로 투입되는 HCl 가스를 1차 중화처리한다.