인포비온
개발장비
10년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2014-04-03
78,800,000원
기관의뢰
고정형
건별
600,000원
-적외선광학유리 성형용 금형 코어의 내마모성, 인성, 고온 안전성 및 내구성 향상을 위한 박막 제작용 진공 챔버 시스템
-금형 코어에 전이금속 계열의 박막을 코팅하여 고경도, 고탄성, 내마모성, 화학적 안정성을 높여 렌즈 생산성 확보
-in-suit 으로 코팅 가능하기 때문에 공정시간 및 박막 오염도 감소를 위해 기판 홀더의 3축 motion 기능이 필요
-다양한 곡면을 가지는 초경합금(WC) 금형 코어의 박막 uniformity를 확보하기 위해 기판 홀더 부분의 공전, 자전이 가능
1) 고진공(10-7 Torr) 챔버
2) 저압공정( ~10-4 Torr)이 가능한 이온빔 보조 RF/DC 마그네트론 스퍼터 챔버
3) 2개의 5인치 스퍼터건과 1개의 RF-중화형 이온소스가 장착 가능한 챔버 - 기보유 5인치 스퍼터건 2개 장착
4) 2개의 스퍼터건과 1개의 RF-중화형 이온소스의 최적조사각도 유지 - co-deposit 코팅 가능 - IAD sputtering 공정 가능 - 다층박막 코팅 가능 5) 스퍼터건 port는 5인치 및 3인치 규격 호환가능 6) 2개의 5인치 스퍼터건과 RF-중화형 이온소스 간섭 제거를 위한 챔버 내부 field 차폐막 장착
7) 기판장착부는 2개의 3인치 기판이 3차원 대칭위치에서 100rpm 이내로 자전
8) 기판홀더는 50rpm 이내로 공전하며 임의의 각도에서 정지 및 tilting, Z-motion(∼50mm)이 가능
9) 기판홀더에 히터 장착으로 ∼500℃내로 가온 가능
10) 가스주입 및 가스압력 조절은 자동/반자동으로 제어
- 초경합금(WC) 재질의 성형용 금형코어의 내구성 향상을 위한 금속박막 코팅용 진공챔버 시스템
- 기판홀더의 3축 제어와 sputter gun 조사각도 제어로 공정시간과 박막오염도 감소를 위한 in-suit 코팅 및 3-D 코팅 가능
- 기판홀더 부분의 공전, 자전이 가능하기 때문에 다양한 곡면을 가지는 금형코어의 내구성 박막 균일도 확보 - 단일물질 다층박막 및 복합물질 박막(co-deposit) 코팅 가능