Roth & Rau
PE-CVD
5년
부대장비(부가장치) (주장비:롤투롤 기상반응 코팅장비)
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2015-06-18
319,433,427원
고정형
건별
4,000,000원
1) Additional Microwave Plasma Source
- Dimension: 640*155*200mm (W*H*D)
- 2.46 GHz, Each 2 kw continuous power / 4.0 kw pulse power
- Gas connection : Reactive + Inert gases connector
2) Pre-treatment by parallel plate plasma arrangement
- power supply by RF (13.56 MHz) Generator
- 사용가스: Argon, Oxgen, Ammonia (각 가스별 MFC설치)
3) Optical spectroscopy of the plasma
- Optical analyzing of the properties of the generated plasma(실시간 모니터링)
- Optical spectroscopy operated by fiber optics
- Being mounted on a separate view port of the process chamber
4) Residual Gas analyzer
- Residual Gas Analyzer: 분석영역(1~100 amu)
- Measuring gas residues at base pressure level
5) Power supply for process drum bias
- Integration of a pulsed DC power supply for the existing process drum
- Unipolar DC pulse: 0~300 V, Frequency: 0~150 kHz, Power: 5 kW
6) Cold trap for unwinder
- Cooled area approx. 600×600 mm^2, Pumping speed: 1000 l/s
- cooler, heater, compressor 포함
- 장비 구성: Linear Microwave Plasma Source/ Plasma Pre-treatment/ Optical spectroscopy/ Residual Gas analyzer/ Power supply for process drum bias/ Cold trap로 구성됨.
- Microwave Plasma Source는 프로세스 챔버 내의 기존 소스 위쪽으로 설치되고, Plasma Pre-treatment는 Load Lock 챔버 Unwinder 하단에 위치하며, Optical spectroscopy와 Residual Gas analyzer는 프로세스 챔버 상단에 설치되며, DC Power supply는 프로세스 드럼에 전기적으로 Isolation시켜 설치되고, 마지막으로 Cold trap은 Load Lock 챔버 Unwinder 전단에 설치됨
- 성능: Linear Microwave Plasma Source와 드럼의 DC Power supply 는 코팅 성막 속도를 향상시키는 역할을 하며, Plasma Pre-treatment는 기재의 표면을 성막의 종류에 알맞게 개질시켜 부착력을 향상 시켜주며, Optical spectroscopy와 Residual Gas analyzer는 우수한 코팅막을 위한 챔버의 진공 상태 점검 및 프로세스 중 플라즈마를 점검 할 수 있게 해준다. 마지막으로 Cold trap은 Base 진공 시 기재와 챔버 내에 존재하는 수분을 제거해줌으로써 우수한 진공 상태를 확보해줄 수있음