Ion-tof
Dual-source ion column
5년
부대장비(부가장치) (주장비:이차이온질량분석기)
분석
화합물 전처리·분석장비 > 질량분석장비 > 이차이온질량분석기
2013-03-28
434,972,039원
고정형
기타
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이차이온질량분석모듈의 경우 소재·부품 표면 식각 모듈로서 기구축된 이차이온질량분석기에 추가 장착하여 소재·부품의 내부 미세 불량 및 박막 불순물 검출 시 활용하는 장치로서, 지속적으로 고기능화·정밀화되는 첨단산업의 소재·부품의 성능 고도화를 위해서는 이차이온질량분석모듈 (스퍼터링 모듈)을 이용한 표면 내부의 정밀성분분석이 필수적임.
- Dual-source ion column for ultra-low energy sputtering
- two ion sources, an electron impact ion source (EI SOURCE) and a thermal ionization Cesium ion source (CS SOURCE can be fitted
- Dual source ion column includes
- differential pumping
- a service valve for separate venting
- a three-lens ion column with deflection units,
- a mass separating pulsing system
- a Wien filter
- fully computer controlled high voltage power supplies
- O2 and Cs dual source for Depth profiling
- An electron impact O2 ion source (operable with rare gases and oxygen) to be mounted on the dual source column
- A thermal ionization Cesium ion source to be mounted on the dual source column
- O2 / Ion energy range : 0.2 ~ 2 keV
- DC ion current : 100 nA @ 0.5 keV, 70 μm
- DC ion current : 250 nA @ 1 keV, 70 μm
- DC ion current : 600 nA @ 2 keV, 70 μm
- Cs / Ion energy range : 0.2 ~ 2 keV
- DC ion current : 40 nA @ 0.5 keV, 70 μm
- DC ion current : 75 nA @ 1 keV, 70 μm
- DC ion current : 150 nA @ 2 keV, 70 μm