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분석
광학·전자 영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경
2014-02-26
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고정형
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주사전자현미경은 신소재 산업, 금속재료, 전자재료, 세라믹, 고분자, 석유화학 제품, 반도체, 연료전지 등 거의 모든 산업에서 제품의 불량 확인 또는 화합물의 분포 현상 분석에 있어서 필수적인 장비로 활용 되어지고 있다. 특히 연료전지, 반도체 및 디스플레이등의 재료에 Sub-nano 및 sub-angstrom 단위의 고분자 재료 등이 사용 되면서 전자현미경 또한 이러한 산업에 맞춰 기술 개발이 진행 되어져 왔다.
하지만, 대부분 산업의 재료들이 고분자 물질화 되어지고, 전자빔, 환경, 오염에 취약하며 수 나노의 박막으로 형성된 고분자 물질들은 이미지 촬영 및 정성, 정량 분석에 많은 어려움이 따르고 있다.
이들을 분석하기 위해서는 고가속, 저가속 에서의 고 분해능과 분석 시 샘플 환경을 적절히 조절 할 수 있는 진공기술, 오염 제거기술, 다양한 이미지 촬영 및 분석기술, 저 가속전압에서의 정성/정량 분석기술 등의 획기적인 기술들이 사용 되어져야 한다.
검토 하고자 하는 장비는 50V~30kV의 가변 가속전압에서 0.8nm이하 분해능을 갖는 장비를 활용하여, 전자와 시편 사이의 상호작용 관계에 의해 저 가속전압에서 real surface structure 관찰이 가능하며, Monochromator라는 색수차 계수렌즈를 사용하여 구면수차에 대한 Resolution의 한계를 극복, 시편의 손상을 최소화할 수 있다.
A. Standard Features
(1) Innovative electron optics, including to Unicolor(UC) technology
that enables an energy spread of less than 0.2 eV
(2) Landing energies down to 50 V for surface sensitive high
resolution imaging
(3) Ultra high precision 5-axes piezo-motorized stage for high precision,
high stability stage, offering XHR imaging on the complete surface of
a 100 x 100 mm sample, in a large analytical chamber
(4) Plasma cleaner system embedding with SEM for samples and
chamber cleaning.
B. Specifications
(1) Electron optics for SEM
Voltage : 50 V to 30 kV or better
Beam Current : 100nA or better
Resolution(measured gold particle separation on carbon substrate) :
High-vacuum:
- 0.6 nm at 15 kV (SE) or better
- 0.7 nm at 1 kV (SE) or better
- 1.2 nm at 200 V
(2) Ultra high precision 5-axes piezo-motorized stage
- Mechanically tilt eucentric stage with <5 μm image motion
when tilting 0 ° to 52 °
- X, Y = 100 mm
- Z ≥ 20 mm
- T = - 10 ° to + 60 °
- R = 720 ° stroke
- X, Y repeatability 0.5 μm