Suss Microtec
MA6
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2014-10-07
376,592,537원
고정형
시간별
50,000원
본 장비는 MEMS, LED, 반도체 소자 제조 시 Photo Lithography 공정에 사용되는 장비로서, 소자 회로가 형성된 Photo Mask와 감광물질(photo resist)이 도포되어 있는 Wafer나 Substrate를 현미경을 통하여 정밀정렬하고, UV광원으로 노광하여 Mask상의 회로를 Wafer에 복사, 형성하는 장비이며 반도체를 연구, 제조하는 학교, 연구소, 회사 등에 반드시 필요한 장비입니다.
wafer size : up to 150mm
Exposure mode : Soft, hard, low vacuum, vacuum contact
proximity mode : exposure gap 1-300um (gap setting accuracy = 1um)
Exposure optics : MO(Micro optics)
Resolution : down to 0.8um
Alignment methods
TSA(Top side alignment)
BSA(Bottom side alignment)