TEL
TEL 480
9년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2003-12-16
62,000,000원
고정형
시간별
0원
*Application : Poly-Si Dry etch
* RF Power : 600KW
* Etch Rate :
2000Å/min(Poly Film)
* Uniformity : 7% Within
Wafer(Poly Etch)
* Selectivity :
15:1(Poly:Oxide),
3:1(Poly:PR)
* Application Design Rule :
0.5um
* Particle : 100개(0.3um Size)