테스칸코리아
MIRA 3 LMH Inbeam detector
5년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경
공동활용허용
2012-12-14
637,961,436원
기관의뢰 직접사용
고정형
건별
50,000원
1. 고 에너지의 전자빔이 시편의 표면을 주사할 때 전자와 시편의 상호작용에 의해 시편 표면으로 방출되는 전자들(backscattered electrons, secondary electrons, Auger electrons 등)과 X-ray를 모아 증폭시켜서 시료의 표면형태의 관찰 및 성분분석을 하는데 이를 측정하는 기기이다.2. FE-SEM/EDS만 있을 경우 한번에 sample의 정보를 얻을 수 있지만 농도가 3%까지만 가능하고 FE-SEM/WDS만 있을 경우는 각 원소마다 맞는 crystal을 선택해 분석하면 시간이 오래 걸리는 반면 정확도가 높아 낮은 ppm단위까지 분석이 가능하고 또한 중첩되는 peak까지 구분이 가능하다. 3. FE-SEM/EDS/WDS가 함께 있을 경우 EDS로 샘플에 대한 전체적인 정보를 얻고 WDS로 좀 더 정밀하게 sample 측정이 가능하고 micro sample의 특정분위(원하는 부위)를 관찰하며 정성 정량 분석이 가능하다.
1. SE : 1.0 nm at 30 KV2. De-acceleration mode:1.5nm at 3 KV, 2.0nm at 1KV, 2.5nm at 200V3. BEI: 2.0nm at 30KV : Magnification at 30KV, Maximum of field of view: 70mm(high vacuum mode), 55mm(with in-beam SE), Electron gun : high brightness schottky emitter, Dynamic focus, Scanning, Vacuum chamber, Specimen chamber, Specimen stage, Easy sample navigation, Detectors: In beam detector, IR chamber view camera, CL detector, Software, Accessories: Sputter coater, EDS/WDS