(주)엔씨디
Lucida M100-PL
10년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 달리 분류되지 않는 기계가공 시험장비 >
2012-07-05
275,000,000원
고정형
원
1. 업체명/품명/모델명/수량
1) 업체명 : ㈜엔씨디
2) 품명 : ALD System(플라즈마를 이용한 원자층 박막 증착시스템)
3) 모델명 : Lucida M100-PL
4) 수량 : 1 SET
2. 용도 설명
본 시스템은 High-k 유전막 제작을 위한 증착장비로서 다양한 반응성 가스를 이용하여 Si 기판위에 산화물 막을 원자층 단위로 증착하는 원자층 박막 증착 시스템으로서, 다양한 oxide형성이 가능하고 원자층 증착장비 특유의 step coverage가 좋아 다양한 소자 구조하에서 기판과 oxide와의 계면에서 상호작용에 대한 연구가 가능하여 transister 소자 제작에 최적의 oxide물질과 공정조건을 수립하는 연구를 진행 할 수 있음.
3. 특징
구매하고자 하는 장비는 기존의 장비와 달리 반응기 체적을 최소화하여 공정 처리 시간을 획기적으로 단축할 수 있을 뿐 아니라, 기존의 복잡했던 Gas/Source delivery system을 단순화 시킴으로써 긴 가스라인을 독자적인 컨셉의 CUBE라는 IGS(Integrated gas system) type의 block에 유로(가스와 소스의 경로)를 집적하여 carrier gas와 source를 챔버까지 최단거리를 통해 반응기까지 유입시킴으로써 pulse time에 대한 loss를 줄이고 가스라인 내부의 오염을 근본적으로 차단함으로써 획일적인 온도관리와 손쉬운 세정작업으로 유지보수가 매우 용이한 구조를 채택하고 있다. 또한 이중구조의 샤워헤드를 채택하여 Precusros와 reactant가 샤워헤드 내부에서 서로 섞이지 않도록 샤워헤드 내부를 거쳐 독립적인 노즐로 분리되어 분사되도록 설계함으로써 챔버 내부에서 기상반응이 일어나거나 샤워헤드 노즐이 막힌다거나 하는 문제를 원천적으로 배제하였으며 분리 및 조립이 용이하여 maintenance 또한 매우 편리하다.
아울러 Recipe control이 타사 제품에 비하여 매우 쉽고 편리하여 ALD공정에 가장 적합한 Recipe환경을 구축하고 있으며 누구나 쉽게 공정변수를 입력하고 수정하며 무한 반복할 수 있도록 GUI가 구성되어 있다.
이러한 장점을 바탕으로 고효율의 특성과 안정적인 증착 특성을 확보할 수 있는 장비 및 공정기술을 보유한 회사의 장비를 사용하는 것이 본 연구의 특성상 가장 적합하다고 여겨지며 아울러 ㈜엔씨디는 각각의 샘플을 병렬형태로 배열하고 반응부의 체적을 최소화하여 증착 시 다양한 샘플 상에 고효율의 특성을 구현하는 박막을 증착 가능한 원자층 증착 장비 제작기술과 관련하여 이미 특허를 확보하고 있다.
본 시스템은 High-k 유전막 제작을 위한 증착장비로서 다양한 반응성 가스를 이용하여 Si 기판위에 산화물 막을 원자층 단위로 증착하는 원자층 박막 증착 시스템으로서 다양한 oxide형성이 가능하고 원자층 증착장비 특유의 step coverage가 좋아 다양한 소자 구조하에서 기판과 oxide와의 계면에서 상호작용에 대한 연구가 가능하여 transister 소자 제작에 최적의 oxide물질과 공정조건을 수립하는 연구를 진행 할 수 있음.