Nano System Solutions
DL-1000
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2012-07-02
600,000,000원
고정형
원
1. 업체명/품명/모델명
- Nano System Solutions/Maskless Patterning System/D-Light DL-1000
2. 용도 설명
- 오토포커스 기능
- 픽셀 보정을 통한 고화질 노광
- TTL (Through-the-lens) 방식에 의한 얼라인먼트
- 이미지 데이터 변환 용이
3. 특징
가. 노광장치 및 노광방법
(2007-317862 특허, 일본)
DMD를 자동 초점 도구로 활용함으로써 얇은 투명 체와 같은 시료에 대해서도 신속하고 안정된 자동 초점을 실시할 기능
두께 0.1 ㎜의 투명 체에 대해서도 오토 포커스 가능
나. 노광장치 및 노광방법
(2008-028099 특허, 일본)
노출 패턴 빛의 강도에 얼룩이 생기지 않도록 하기 위해 DMD 각 화소의 밝기를 측정하여 보정을 실시할 수 있는 기능
노출 균일 ± 5 % 이내
다. 노광방법 및 노광장치
(2008-112093 특허, 일본)
1μm 이하의 미세한 JAGGY를 해소하고, 매끄러운 경사 선과 곡선을 그릴 수 있는 기능