(주)에스앤텍
ASS-5000
10년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 달리 분류되지 않는 기계가공 시험장비 >
2012-06-26
45,000,000원
고정형
원
1. 지정업체명/품명/모델명/수량
- ㈜에스엔텍 / Ashing System / ASS-5000 / 1set
2. 용도 설명
- 상기 system은 플라즈마 내 이온을 가속하여 기판의 공정 부산물을 제거하는 설비입니다. 본 연구실은 상기 장비를 사용하여 기판 상의 감광액 및 기타 불순물에 대한 제거를 통하여 보다 청정한 기판 상태를 기반으로 관련 연구를 진행
3. 특징
- (주)에스엔텍에서는 상기 system 및 공정에 있어서 지적재산권(특허 제10-0817477호 플라즈마 세정 장치)을 보유하는 등 해당분야에 기술력이 검증된 업체
1. 가스 Uniform 분사 구조
2. 박막 측정 결과 값 Thickness Uniformity ≦±3%
3. 최저 진공 : ≦1xE-3 Torr
4. Process중 원하는 진공도에서 10m Torr이내 유지