(주)에스앤텍
IRS-5000
10년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 달리 분류되지 않는 기계가공 시험장비 >
2012-06-26
270,000,000원
고정형
원
1. 업체명/품명/모델명/수량
- ㈜에스엔텍 / ICP-RIE System / IPS-5000 / 1set
2. 용도 설명
- 상기 system은 유도 결합 방식의 고밀도 플라즈마(ICP)의 발생과 바이어스(bias) 구조를 통한 플라즈마 내 이온의 가속으로부터 기판을 강하게 식각하는 공정 설비입니다. 본 연구실은 상기 장비를 사용하여 기판 상의 특정 미세 패턴과 나노 구조물의 형성을 기반으로 하는 관련 연구를 진행
3. 특징
- (주)에스엔텍에서는 상기 system 및 공정에 있어서 지속적인 연구 개발을 통해 관련 지적재산권(특허출원 제10-2010-0138768호 유도 결합형 플라즈마 안테나 및 이를 갖는 유도 결합형 플라즈마 처리 장치)을 취득하기 위한 노력을 지속하는 등 해당분야에 기술력이 검증된 업체입니다.
- DEMO 장비를 통한 식각 특성 확인
- Langmuir탐침을 통한 Plasma 밀도 측정 DATA 확인
- 박막 측정 결과 값 Thickness Uniformity ≦±3%
- 최저 진공 : ≦1xE-5 Torr
- Process중 원하는 진공도에서 10m Torr이내 유지