(주)에스앤텍
LCS-5000
10년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 달리 분류되지 않는 기계가공 시험장비 >
2012-06-26
150,000,000원
고정형
원
1. 업체명/품명/모델명/수량
- ㈜에스엔텍 / LP-CVD System / LCS-5000 / 1set
2. 용도 설명
- 상기system은 저진공 상태에서 TEOS를 진공 챔버 내로 공급하는 방법과 고온 산화(Thermal Oxidation) 및 Plasma에 의한 이의 보조하는 방법으로 박막을 합성하는 설비입니다. 본 system은 TEOS의 진공챔버 내에 균일하고 연속적인 공급을 통한 박막의 증착과 기판을 고온으로 가열하면서 Plasma를 균일하게 형성하는 것이 핵심입니다. 본 연구실은 상기 장비를 사용하여 다양한 합성법을 통한 산화물 박막을 연구하고자 하며, 이로부터 합성법의 차이가 박막에 미치는 특성 및 물리적인 현상을 파악하는데 필수적으로 요구됩니다.
3. 특징
- (주)에스엔텍에서는 TEOS의 진공 챔버로의 공급장비, 기판의 가열 장치 및 안정성인 플라즈마 형성에 대한 우수한 기술력(특허 제 10-0691618호 중성빔 발생장치를 갖춘 화학기상 증착, 특허 제 10-0559069호 자장 중 급속 열처리 장치)과 관련 system에 대한 많은 know-how를 보유하고 있는 기술력이 검증된 업체입니다.