(주)에스앤텍
SCS-5000
10년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 달리 분류되지 않는 기계가공 시험장비 >
2012-06-26
286,000,000원
고정형
원
1. 품명/업체명
- PECVD System / (주)에스엔텍
2. 용도 설명
- 본 system은 고반응성의 플라즈마를 이용하여 화학적인 반응을 통한 박막을 합성하는 장비입니다. 본 연구실 위 장비를 이용하여 SiOx, SixNy 등의 박막 합성에 관한 연구를 진행하고자 하며, 본 연구에 있어 Uniform한 Gas 분포와 높은 Plasma 밀도는 우수한 박막을 합성하는데 있어 필수조건입니다. (주)에스엔텍에서는 관련 분야에 있어 많은 납품 실적과 연구 성과를 가지고 있으며, 특히 본 분야의 지적재산권(특허 제 10-0691618호 중성빔 발생장치를 갖춘 화학기상 증착)을 보유하는 등 기술력이 검증된 업체입니다.
1. 반응성 가스 Uniform 분사 구조
2. 박막 측정 결과 값 : Thickness Uniformity ≦±3%
3. 최저 진공 : ≦1xE-6 Torr
4. Process 중 원하는 진공도에서 10m Torr 이내 유지