(주)에스앤택
ARS-5000
10년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 달리 분류되지 않는 기계가공 시험장비 >
2012-06-26
140,000,000원
고정형
원
1. 품명/ 공급업체
- Advanced Plasma System / (주)에스엔텍
2. 용도 설명
- 본 system은 플라즈마 내 이온을 가속하여 기판을 에칭하여 기판의 전처리 또는 미세 패턴을 형성하는 장비입니다. 본 연구소는 RIE System을 이용하여 특정 물질에만 반응하는 반응성 가스를 주입함으로서 Process 과정에서 형성된 박막의 두께를 선택적으로 얇게 하거나 불필요한 부분을 완전히 제거 또는 세정하는 공정을 하고자 하며, 이를 통해 보다 좋은 Substrate 특성을 기반한 관련 연구를 진행하고자 합니다.
(주)에스엔텍에서는 상기 system 및 공정에 있어서 지적재산권(특허 제10-0817477호 플라즈마 세정 장치)을 보유하는 등 해당분야에 기술력이 검증된 업체입니다.