(주)에스앤텍
RTP-5000
10년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 달리 분류되지 않는 기계가공 시험장비 >
2012-06-26
83,000,000원
고정형
원
1. 품명/ 공급업체명 / 수량
- Rapid Thermal Annealing System / (주)에스엔텍 / 1set
2. 용도 설명
- 상기 system은 급속 열처리 장비로써 박막의 열처리를 통한 물성 제어에 필수적인 system입니다. 본 연구실은 급속 상승하는 열원을 이용한 Film Heating과 급속 상승한 열원을 제거함과 동시에 Chamber 내 Gas 분위기로 급속 냉각 되는 Film Cooling할 수 있는 장비의 특성을 이용하여 개질된 Thin Film의 물리적인 특성 연구하며, 이에 본 system은 필수적으로 필요합니다. (주)에스엔텍은 관련 기술에 있어서 지적재산권(특허 제 10-0559069호 자장 중 급속 열처리 장치)을 보유하는 등 해당분야에 기술력이 검증된 업체입니다.
승온 속도 : 50℃/sec 이상 가능
Heating Uniformity
900℃ ± 50℃ 유지
Max. Heating Temp. : 1,100℃
최저 진공 : ≦1xE-3 Torr
승온 속도 : 50℃/sec 이상 가능
Heating Uniformity
900℃ ± 50℃ 유지
Max. Heating Temp. : 1100℃
최저 진공 : 1xE-3 Torr