㈜제4기한국
JSPCS-300
5년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2012-04-25
41,800,000원
고정형
8,708원
Subject : Batch Plasma Cleaning & Coating System (Model : JSPCS-300)Standard Features1. Vacuum Chamber : (W)300×(D)300×(H)300mm- Material : Aluminum Alloy- Easy RIE/PE Mode change- Adjustable (Space & Position) 3 Shelves2. Power Supply- 650W@200KHz, AC Pulse (Air Cooling)- Auto Matching Function3. Vacuum units- Dry Vacuum Pump- 55m3/hr @60Hz Dry Pump- One baratron Vacuum Sensor (1torr) + 대기압 sensor4. Vacuum Control- Main Valve : NW 40 Angle Valve- Vent & N2 Purge Valve- View Port5. Gas Control- MFC (Mass Flow Controller) : One Channel (Argon gas, max. 100sccm)- 최대 3 Channel 확장 가능- Gas Nozzle & Pumping Port Design for good uniformity6. Display and Control- PLC & Touch Screen Control7. 설치 및 시운전 교육Cleaning 및 Coating 공정 기술지원8. 기타 : 장비 설치를 위한 유틸리티 공사는 공급 범위에 포함 안됨
본 기기는 아래와 같이 구성되며, 플라즈마를 이용하여 기판 세정 및 표면 코팅을 할 수 있는 기기로써 포트를 여러 개로 확장 하여 다양한 반응 가스를 사용, 여러 용도로 확장하여 이용이 가능함