NanoPhotonics GMBH
Reflex Manual TT
10년
주장비
계측
광학·전자 영상장비 > 달리 분류되지 않는 광학·전자 영상장비 >
2012-04-13
201,830,000원
고정형
시간별
20,000원
웨이퍼 표면검사기는 패턴이 형성되어 있지 않은 웨이퍼의 표면에 존재하는 먼지(particle), 오염, 긁힘(scratch), area defect, haze 등을 검출하고 이에 대한 분포 자료(mapping)및 통계를 얻을 수 있는 장비이다. wafer가 회전하는 동안 장비내부에 있는 검사기가 wafer를 훑는 식으로 scan하며 측정한다. 6인치와 8인치 웨이퍼가 가능하다.
1. 웨이퍼 표면검사기(이하 “본 장비”로 표기)는 패턴이 형성되어 있지 않은 웨이퍼의 표면에 존재하는 먼지(particle), 오염, 긁힘(scratch), area defect, haze 등을 검출하고 이에 대한 분포 자료(mapping) 및 통계 자료를 제시할 수 있다.
- 본 장비는 최소 지름 6인치에서 최대 지름 300 mm의 웨이퍼를 측정할 수 있다.
- 본 장비는 측정 모듈과 검사 모듈, 이를 제어하는 컴퓨터로 구성된다.
- 본 장비의 시편은 수동으로 장입된다.
2. 시편의 종류 및 크기
- 실리콘 웨이퍼 및 유리 기판
- 지름 6인치에서 300mm까지 측정 가능.
- 시편은 수동으로 장입.
- 시편은 진공 또는 시편에 손상이 가지 않는 방법으로 측정 테이블에 고정되어야 한다.
- 측정 분해능
- LSE(latex sphere equivalent) 기준 지름 0.15 um 이상의 오염물질을 검출할 수 있어야 한다.
- 오염물질의 크기를 구별하여 검출 할 수 있어야 한다.
- 8인치 실리콘 웨이퍼를 기준으로 10분 이내에 측정을 완료하여야 한다.
- 95% 이상의 신뢰도를 갖도록 측정이 재현되어야 한다.
- 주기적인 calibration을 위한 표준시편을 제공하여야 한다.
- CE 또는 동등한 안전인증 필요
- 오염물질 분포(particle map), 오염물질 통계(particle historgram), haze map, haze histogram을 표시하여야 한다.
- 측정데이터 원본 및 lot 측정 결과를 확인할 수 있어야 한다.
- map, histogram, 표 등으로 측정 결과를 표시할 수 있어야 한다.