아텍시스템
없음
5년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2012-03-11
32,571,000원
고정형
6,786원
회전속도 : 10 ~ 60rpm상하 이송 방법 및 스트로크 : 모터 구동, 최대 125mm회전지지부 : Magnet Ferro Seal상하 이송 씰 : 벨로우즈서셉터 : 그래파이트 6인치써모커플 : C-type부품 내열 온도 : 최대 온도 섭씨 1,200도의 발열부에 대응하는 주변환경 구성에 준할 것진공 누설 허용범위 : 8x10-9 mbar/sec기타 : 히터블록 내부로 퍼지 기체를 흘릴 수 있어야 한다.
진공장비의 안팎의 경계면을 넘나드는 것은 전기, 직선운동부, 회전운동부 등이 있다. 특히 고진공을 유지하면서 회전을 지지하는 구조를 간추는 것은 매우 어려운데, LED 공정과 같은 MOCVD 공정은 고온과 파티클 발생이라는 추가적인 혹독한 환경이 요구된다. 한편, 서셉터, 혹은 히터 블록을 회전하지 않고서는 기판에서의 증착균일도를 만족하기는 매우 어렵다. 따라서 기존에 사용하던 MOCVD 장비에서 기판이 회전하지 않던 구조를 이번에 회전하는 구조로 바꿈으로써 증착균일도를 개진하고자 한다. 단, 고진공, 고온, 파티클 문제 등을 해결하는 기술이 반드시 적용될 수 있어야 하며, 이를 위해 회전지지부재로서 그 우수한 성능이 잘 알려져 있는 Magnet Ferri Seal을 적용된 기술을 채택하며, 동시에 벨로우즈를 사용하여 상하 이송도 동시에 이루어질 수 있도록 한다.