㈜에스이테크
MOCVD-1
5년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2012-02-28
30,800,000원
고정형
6,417원
1)프레임 재질 및 크기 : 프레임 종류 : 50mm x 50mm 철재 채녈, 크기 : 1500mm x 2100mm x 1740mm, 도장 : 흰색 2)반응실 외경과 높이 외경 : 406mm 높이 : 380mm 3)반응실에 설치되는 뷰포트 지름 : 36mm 수량 : 2개 4) 반응실의 상부커버를 업다운 장치 스트로크 : 200mm 5) 상부커버를 회전 장치 스트로크 : 200mm 6) 게이트 밸브 규격 : 개구부 폭 304mm, 개구부 높이 76mm 수량 : 2개7) 반응실 커버 형상 - 별도의 붙임 파일 참조8) 최고 진공도 : 5x10-6 Torr (7x10-4 Pa)
그 내부에 샤워헤드, 히터블록, 서셉터, 기판, 내부 챔버를 갖츤 CVD 반응실에서는 기판 위에서 막 증착이 일어난다. 원료물 기체가 반응실 안으로 들어와서 대부분은 샤워헤드를 거쳐서 기판 쪽으로 분사되고 가움기체 한가지는 샤워헤들 거치지 않고 반응실 내부로 분사된다. 원료물 기체는 기판 위에서 뜨거운 온도에 의한 화학반응을 거쳐서 고형질의 막으로 기판 위에 남게 된다. 이 과제에서는 샤워헤드 개발이 목적이며 핵심이다. 과제 목표를 만족할 수 있는, 최적화된 샤워헤드가 반응실 안에 안착될 수 있도록 샤워헤드를 받치거나 지지하는 구조를 갖추어야 함은 물론, 샤워헤드를 설치하거나 유지보스를 위한 제거가 쉽도록 반응실 구조가 갖춰져야 한다. 그리고 서셉터가 입출입할 수 있는 게이트 밸브를 갖춰야 하며 샤워헤드를 매단 형태의 커버를 올리고 또 기울일 수 있어야 한다. 그리고 반응실 안을 볼 있도록 뷰포트가 2개 설치되어야 한다. 전체적으로 외관이 깨끗해야 하며 특히 진공도가 확실해야 한다.