케이플러스
Organic wet station
10년
주장비
기타
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2006-09-04
33,000,000원
직접사용
고정형
시간별
13,750원
wet station 이란 각종 Chemical 을 안전하게 이용할 수 있는 장비. 재료 및 사용하고자 하는 물질의 크리닝 및 에칭에 필요한 유기 물질을 안전하게 보관 및 사용 시 석션을 통한 사용자 보호
크게 반응조(reaction bath), 세정조(quick drain and rinse; QDR)로 구성됩니다.반응조는 사용 chemical 의 종류에 따라 재질이 바뀌며, 그 재질로는 quartz, teflon, stainless steel316(SUS 316)을 사용하고 그 구성은 공정 wafer 의 종류에 따라 size 가 결정되는 bath 크기와heating line, drain line 등으로 구성됩니다.여기서 온도센서와 용량센서는 필수로 들어갑니다.그리고 세정조는 거의 clean PVC 정도를 사용합니다.구성은 DI nozzle 과 snug plate 대용량 drain valve 로 구성됩니다.일반적으로 wet station 또는 반도체 공정에서의 wet 공정에서 사용하는 DI water 는 18MΩ옴의 초순수를 사용합니다