뉴텍웨이브
NTW1200
10년
부대장비(부가장치) (주장비:유기금속화학증착장치)
기타
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2006-10-02
84,370,000원
직접사용
고정형
시간별
4,219원
과제명 : 반도체광원 시험생산 기술지원사업
과제책임자 : 김왕기
장비 spec
이 장비는 진공장비의
잔류가스를 burn ,wet 공정으로 처리하여 배출하는 설비이다.
그리고 별도의 장비로 사용은 불가하고 장비의 부속 장비다.
1. Operating conditions and performance
Total gas treatment volume 1200 SLM (H2 : 100 LPM, NH3 : 100 LPM)
Heating chamber temperature 750~900℃
2. Electrical data
Electrical power 14 KW
Voltage 208∼220 VAC
Phase 3 Phase
Rating current(full load) 35 A
Running current 28 A
Heater rating power consumption 12 KW
이 장비는 진공장비의
잔류가스를 burn ,wet 공정으로 처리하여 배출하는 설비이다.
그리고 별도의 장비로 사용은 불가하고 장비의 부속 장비다.
1. Operating conditions and performance
Total gas treatment volume 1200 SLM (H2 : 100 LPM, NH3 : 100 LPM)
Heating chamber temperature 750~900℃
2. Electrical data
Electrical power 14 KW
Voltage 208∼220 VAC