XACTIX, Inc (미국)
Xetch e1
9년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2006-02-17
113,286,682원
고정형
기타
0원
XeF2 gas를 이용한 etcher 장비로써 MEMS 공정에 주로 이용할 수 있음.
N2 gas를 이용하여 선택비를 높여서 식각이 가능함.
XeF2 gas는 대기중에서 해리되는 고 반응성 Gas임.
구성 : XeF2 gas, Process Computer, N2 gas, Air compressor, Spin rotary pump
XeF2 gas는 수십mTorr에서 약 4torr까지 공정이 진행 가능하며,
시료는 4inch까지 가능함.