반자동 타입 (Semi-Auto Type): X,Y 축 자동 타입
1. 자동초점기능 제공 (Auto Focusing System)
2. Semi-automatic mechanism stage control
3. 측정두께 범위: 10nm ~ 35um
5. 측정정확도: ≤±1nm (SiO2(100nm) on Si Wafer 기준)
6. 측정재현성: ≤±1% (SiO2(100nm) on Si Wafer 기준)
7. 측정 시료 범위
(1) 반도체 분야: 4“,6“,8“ Wafer 대응
(2) 디스플레이분야: 100×100, 150×150, 200×200mm 대응