Sentool, Inc.
280S
5년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 건조시스템
2006-11-10
44,706,478원
고정형
건별
0원
Wafer를 Wet Etching 또는 Cleaning을 거친 후에 Wet 상태의 Wafer를 세척 및 건조시키는 장비임. wet station장비로 세정한 웨이퍼 및 시료를 카세트로 넣어 웨이퍼 표면을 건조하는 장비로 대량의 웨이퍼를 빠른시간안에 신속히 건조시킬수 있음
Rinse step에서는 회전 중인 wafer 표면에 DI Water를 분사하여 wafer의 이송 중에 묻을 수 잇는 particle 들을 제거해주며 Dry step에서는 Motor에 의해 회전체인 Rotor가 고속호전을 하면서 wafer에 묻은 물기를 원심분리방식에 의해서 Wafer를 건조시킴. 이때 Hot Nitrogen을 wafer 표면에 분사시켜서 Wafer 표면에 있는 물기 및 Particle을 제거하며 건조하는 시간을 향상시켜 Throuput 향상의 기능을 가져옴. 구동은 Micorprocessor에 의해서 Rinse와 Dry를 한 Recipe 안에서 구동시킬 수 있도록 software 지원 체계를 갖고 있음. Brushless Motor와 LC 4 Controller Motor를 이용하여 Recipe를 Input/Output 시킬때 Touch Pad에 의해서 편리하게 입력시킬수 있도록 만들어져 있음. 회전체(Rotor)의 호전시 발생되어지는 정전기를 흡수 시 킬 수 있는 Static Eliminator와 세척후 Wafer의 세척 정도를 저항치 값을 이용한 Controller에 Display 될 수 있도록 Resistivity Probe도 장차 고디어져 있어서 Data의 정확도 향상 및 Operation 기능을 편리하게 하였음.