선익시스템
SUNICOAT 562L
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2006-10-12
200,000,000원
기관의뢰
고정형
시간별
80,000원
Film 및 Glass에 Magnetron-DC sputtering 공정을 통해 Target 물질을 증착하는 장비로 multi-layer 및 co-sputtering이 가능하며 현재 ITO 및 IZO Target이 장착되어 있다.
- Substrate(GlassFlim) size: Up to 150mm X 150mm
- Load lock chamber(ultimate pressure): 5E-3 Torr
- Process chamber(ultimate pressure): 8E-8 Torr
- Available of co-sputter
- Temp. setting range: 10-200도
- Thickness Uniformity: Less than 3%