신도기연
SDSPKH01
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2006-07-25
38,000,000원
기관의뢰
고정형
시간별
54,500원
Glass 기판 혹은 silicon wafer 등의 thin film 위에 코팅/노광된 photo resist를 spraypuddle 방식으로 현상액을 이용하여 UV와 반응한 노광영역과 노광되지 않은 영역을 선택적으로 제거하고 rinse하는 장비이다
* Work Size: 6" X 6"
* 방 식: 현상액(Develop)Spray 처리방식
* Work 고정방식: 진공흡착방식
* 건조 Air Knife Module 설치: Slit식 Air Knife로 건조
* 순환 Pump: Magnetic형 Seal less Pump